Dicke | 0,3 bis 1,3 mm |
Wellenfrontdeformation | λ/4 @ 633 nm |
Oberflächenqualität | 20 – 10 scratch/dig |
Parallelität | 0,5 Sekunden |
Verzögerungstoleranz | λ/100 bzgl. des Wellenlängenbereichs |
Temp. Koeffizient der Verzögerung | weniger als λ/500 je °C |
Strahlabweichung / Parallelität | weniger als 1 Minute |
Einfallswinkeltoleranz | für max. 1 % |
Variation der Verzögerung | +/-3° |
Lagertemperaturbereich | -40 °C bis +75 °C |
Beschichtung (mittlere Reflektion) | > 1 % bei 465 – 610 nm je Oberläche, > 0,7 % bei 610 – 850 nm je Oberfläche, > 0,6 % bei 700 – 1000 nm je Oberfläche, > 0,5 % bei 1200 – 1650 nm je Oberfläche |
Zerstörschwelle | 2J/cm2 (8 ns puls @ 1064 nm); 500 kW/cm2, CW |
Durchmesser | 25,4 mm mit Haltering |
Ringdicke | 30 mm |